Ointment Release
Ointment Release: computes and outputs results from the input parameters.
| 型別 | 代表基質 | 釋藥速度 | 吸水性 | 洗除性 | 適用 |
|---|---|---|---|---|---|
| 油脂性 | 凡士林、羊毛脂 | 慢 | 差 | 難 | 保護、滋潤 |
| O/W乳劑 | 十六醇+乳化劑 | 快 | 好 | 易 | 滲皮吸收 |
| W/O乳劑 | 羊毛脂+膽固醇 | 中 | 中等 | 較難 | 保溼潤膚 |
| 水溶性 | PEG、MC | 快 | 好 | 易 | 破損皮膚 |
| 水凝膠 | 卡波姆、透明質酸 | 快 | 好 | 易 | 清涼、透皮 |
紫草提取物 + 當歸提取物 + 凡士林基質
釋藥較慢，適合慢性皮損修復
小檗鹼 + 十六/十八醇 + 吐溫/司盤乳化
釋藥快，適合急性感染性皮膚
冰片 + 薄荷腦 + 卡波姆凝膠
釋藥快，清涼感強，適合蚊蟲叮咬
方法：漿碟法（藥典通則1093）
介質：磷酸鹽緩衝液（pH 5.0-7.4）或人工汗液
溫度：32±0.5°C（模擬皮膚溫度）
取樣時間：1h、2h、4h、6h、8h、12h、24h
評價：計算各時間點累積釋放量，繪製釋放曲線
Higuchi模型：Q = K√t （基質型控釋）
零級動力學：Q = K₀t （恆速釋放）
一級動力學：ln(1-Q) = -K₁t
Korsmeyer-Peppas：Q = K·tⁿ（n≤0.45 Fick擴散，0.45<n<0.89 混合機制）
軟膏基質藥物釋放度計算器 - Higuchi模型釋放度計算及軟膏基質選擇。。醫療專業工具，基於權威醫學標準，僅供參考。