離子束濺射計算

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⚛️ Ion Beam Sputtering Calculator

Compute ion beam sputtering yield from energy, angle, target Z and current density.

💡 公式：濺射產額 Y ≈ 0.0006·E·√Z / cosθ；離子通量 Φ=J/e；刻蝕速率 = Y·Φ·M/(ρ·Nₐ)·1e7·60 (nm/min)。
⚠️ 使用說明與注意事項
  • 按 Enter 快速計算，Ctrl/Cmd + Enter 複製結果
  • Y 為經驗近似（千電子伏量級 Ar+ 較準），實際受離子種類、閾值能量影響
  • 入射角增大濺射產額升高，但 θ 接近 90° 時公式失效
  • 刻蝕速率假設離子電流均勻且無再沉積

🕘 最近計算

暫無計算記錄

📚 深度解析：離子束濺射計算

💡 常見使用場景

快速複核「離子束濺射計算」
先用基礎引數跑一次基準值，再把核心輸入提高 10% 與 50% 做對比運算，確認輸出變化是否合理。

❓ 常見問題（FAQ）

離子束濺射計算 結果可用於直接報告嗎？
離子束濺射計算 適合用於內部複核與說明，正式材料請附帶口徑、邊界條件和輸入範圍說明。
結果看似異常，該怎麼快速排查？
先核對是否有百分號/小數口徑衝突，再檢查是否觸發了數學域外定義（如對數、開方、除零）。

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📖關於「離子束濺射計算」 ▼

📝工具簡介

離子束濺射計算器，依據離子能量、入射角、靶材原子序數與離子電流密度，估算濺射產額與刻蝕速率，用於離子束刻蝕與薄膜製備工藝參考。

✨功能特點

🎯使用場景

💬常見問題

為何與實測偏差較大？
本工具採用經驗近似公式，未含閾值能量與離子種類修正，實際產響應以實測或 SRIM 模擬為準。
入射角為何限制 <90°？
接近掠射時 cosθ 趨零，公式發散，實際存在最大產額角（約 60°～80°）。
資料會上傳嗎？
不會，全部本地計算。