离子束溅射计算

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⚛️ Ion Beam Sputtering Calculator

Compute ion beam sputtering yield from energy, angle, target Z and current density.

💡 公式：溅射产额 Y ≈ 0.0006·E·√Z / cosθ；离子通量 Φ=J/e；刻蚀速率 = Y·Φ·M/(ρ·Nₐ)·1e7·60 (nm/min)。
⚠️ 使用说明与注意事项
  • 按 Enter 快速计算，Ctrl/Cmd + Enter 复制结果
  • Y 为经验近似（千电子伏量级 Ar+ 较准），实际受离子种类、阈值能量影响
  • 入射角增大溅射产额升高，但 θ 接近 90° 时公式失效
  • 刻蚀速率假设离子电流均匀且无再沉积

🕘 最近计算

暂无计算记录

📚 深度解析：离子束溅射计算

💡 常见使用场景

快速复核「离子束溅射计算」
先用基础参数跑一次基准值，再把核心输入提高 10% 与 50% 做对比运算，确认输出变化是否合理。

❓ 常见问题（FAQ）

离子束溅射计算 结果可用于直接报告吗？
离子束溅射计算 适合用于内部复核与说明，正式材料请附带口径、边界条件和输入范围说明。
结果看似异常，该怎么快速排查？
先核对是否有百分号/小数口径冲突，再检查是否触发了数学域外定义（如对数、开方、除零）。

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📖关于「离子束溅射计算」 ▼

📝工具简介

离子束溅射计算器，依据离子能量、入射角、靶材原子序数与离子电流密度，估算溅射产额与刻蚀速率，用于离子束刻蚀与薄膜制备工艺参考。

✨功能特点

🎯使用场景

💬常见问题

为何与实测偏差较大？
本工具采用经验近似公式，未含阈值能量与离子种类修正，实际产响应以实测或 SRIM 模拟为准。
入射角为何限制 <90°？
接近掠射时 cosθ 趋零，公式发散，实际存在最大产额角（约 60°～80°）。
数据会上传吗？
不会，全部本地计算。