光刻分辨率估算

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🔬 Estimate 36

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💡 瑞利判据：分辨率 R = k1 · λ ÷ NA；焦深 DOF = ± k2 · λ ÷ NA²。k1 反映工艺难度（极限约 0.25），NA 为投影透镜数值孔径，浸没式光刻 NA 可达 1.35。
⚠️ 使用说明与注意事项
  • NA 必须大于0，浸没式 NA 可超过1
  • 实际分辨率还受光刻胶、工艺优化影响
  • k1=0.25 为理论极限值，量产 k1 通常 0.3-0.4
  • 本工具纯前端运行，数据不会上传到服务器

🕘 最近计算

暂无计算记录

📚 深度解析：光刻分辨率估算

💡 常见使用场景

快速复核「光刻分辨率估算」
先用基础参数跑一次基准值，再把核心输入提高 10% 与 50% 做对比运算，确认输出变化是否合理。

❓ 常见问题（FAQ）

光刻分辨率估算 结果可用于直接报告吗？
光刻分辨率估算 适合用于内部复核与说明，正式材料请附带口径、边界条件和输入范围说明。
结果看似异常，该怎么快速排查？
先核对是否有百分号/小数口径冲突，再检查是否触发了数学域外定义（如对数、开方、除零）。

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📖关于「光刻分辨率估算」 ▼

📝工具简介

光刻分辨率估算器基于瑞利判据，根据光源波长、数值孔径 NA 与工艺系数 k1/k2 估算光刻分辨率与焦深，适用于半导体工艺节点评估与光刻系统选型。

✨功能特点

🎯使用场景

💬常见问题

为什么浸没式 NA 能大于1？
浸没式光刻在镜头与晶圆间注入纯水（n≈1.44）或其他液体，使介质折射率大于空气，NA = n·sinθ 可超过1，从而提升分辨率。
k1 越小越好吗？
k1 越小分辨率越高，但工艺难度越大，对掩膜优化、光源形状与光刻胶要求越高，量产 k1 一般不低于 0.25。
我的数据会被上传吗？
不会。所有计算均在浏览器本地完成，数据不会发送到任何服务器。